PRODUCT CENTER
产品中心
CANON MPA 600 FA是一种自动化的掩模对准器，用于生产质量尽可能最高的集成电路（IC）。高精度的设备可以提供很高的准确性和可重复性。配备6英寸狭缝场投影对准器、长寿命离子束源和高分辨率光靶。佳能MPA600FA有一个狭缝场投影对齐器，使光刻面罩和目标基板之间能够精确、可重复、高精度对齐。这样可以确保打印过程中尽可能高的寄存器准确性和保真度。该系统还具有长寿命电子束源，可在200 mm IC生产过程中实现清洁可靠的光刻。MPA-600FA还包括一个照片目标，以测量具有卓越准确性和可重复性的对齐参数。电子束光刻装置工作在非常高的速度，并允许过程跟踪低至110 µm以及面罩放置精度高达0.1µm。该单元还有一个集成的光学视频机，便于设置，对准和维护。CANON MPA 600FA具有多种用户友好的功能,例如允许用户存储多达四种不同类型的掩码-晶圆对齐方式的四个程序。该工具还配备了高级数据处理功能,为用户提供过程性能的实时度量。内置的统计审查图还允许对需要最高程度流程控制的FAB进行快速数据分析和微调。总体而言,MPA 600 FA是光刻生产领域公认的领导者,具有极高的精密IC生产能力。长寿命的离子束源、高分辨率的光靶以及对准的速度和精度，使其成为半导体行业内可重现集成电路生产的领先者。