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静电卡盘是半导体关键零部件,技术壁垒高

静电卡盘是半导体关键零部件,技术壁垒高

2024-08-02

静电卡盘是一种通过静电力将工件吸附固定在卡盘表面的夹具。相较于传统的机械卡盘与真空卡盘,静电卡盘由于对工件损伤小、精度高等特点,被广泛运用于精密加工的场景。静电卡盘ESC对多个半导体制造工艺的良率提升起重要作用现代半导体工艺中需要保证晶圆的平稳固定。ESC静电卡盘由于吸附均匀、污染小、可作用于真空环境的特点在工艺良率的提升方面优势明显。同时半导体工艺中对晶圆温度控制是影响良率的关键,因此需要通过静电卡盘对晶圆进行加热或散热从而对晶圆温度进行精准控制。在静电卡盘实际工作过程中,同一温控区内的晶圆实际温度可能会有不同。因此可通过增加温控区的方式,对每一温控区进行单独温度控制,从而实现晶圆整体的均热性,提高半导体工艺的良率。静电卡盘市场稳步增长据珂玛科技公告,静电卡盘占刻蚀机原材料采购成本的12.7%。受益于半导体设备市场规模持续扩张,静电卡盘市场规模持续增长。据QYResearch数据,2017-2021年全球静电卡盘市场销售额从15.5亿美元增长至17.1亿美元,CAGR为2.5%。QYResearch预计2022-2028年全球静电卡盘市场销售额将由17.9亿美元增长至24.1亿美元,CAGR为5.1%。全球静电卡盘市场由美系、日系制造商高度垄断美国的静电卡盘制造商包括Applied Materials与Lam Research等,日本的静电卡盘制造商包括Shinko、TOTO、NTK、Creative Technology Corporation等。据QYResearch数据,Applied Materials、Lam Research与Shinko分别占据了2021年全球静电卡盘市场销售额前三位,各自占比分别为43.86%/31.42%/10.20%。国内厂商处于起步阶段,国产替代需求迫切无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

半导体行业CVD设备是啥?

半导体行业CVD设备是啥?

2024-07-27

薄膜生长设备在半导体产业发展和制备中发挥关键的作用,是半导体制造中成本占比第三大的设备。通过精确控制薄膜的生长条件,薄膜生长设备可以实现对半导体器件性能的精细调控,对于满足不同下游应用要求、提高器件的性能和集成度至关重要。薄膜沉积设备包括PVD、CVD、外延设备三大类,今天的跟着方克斯CVD设备小编一起就薄膜沉积设备中的CVD(化学气相沉积)设备。CVD设备在半导体产业中的关键作用包括:材料改变和控制CVD过程可以改变和控制沉积薄膜的材料特性。通过选择不同的前体气体、调节反应条件,可以实现对薄膜的化学组成、晶体结构等方面的控制。多层结构制备CVD设备可用于制备多层结构,不同层的薄膜具备不同的性质,对于制造复杂的器件和集成电路至关重要。纳米制造CVD技术可应用于纳米制造领域,实现对纳米结构的精确控制,如在纳米线、纳米颗粒等的制备中,CVD是一种常见的工艺方法。集成电路制造CVD设备用于制备集成电路中的绝缘层、导体层和其他关键层,直接影响了集成电路的性能、功耗和稳定性。光学薄膜在光学元件的制造中,CVD设备用于沉积光学薄膜,如抗反射涂层、反射镜、透镜等,影响着光学器件的透过率、反射率等性质。传感器制造在传感器的制造中,CVD用于沉积对特定物理量敏感的薄膜,影响传感器的灵敏度和性能。晶体生长CVD还可用于生长晶体,通过在晶体基底上沉积一层层的原子或分子,可以制备具有特殊性质的晶体。无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多CVD设备、静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

半导体产品封装工艺是什么

半导体产品封装工艺是什么

2024-07-23

一提到“封装”,大家不难就会想到“包装”,但是,封装可不能简单的就认为等同于包装的哦,因为封装是“升级版”的包装呢,封装工艺不仅是将芯片包裹起来,还能制造通路并在外部环境下保护电路而不受外部环境的伤害。下面我们就开始讲讲半导体封装工艺的相关知识!将通过前段工序完成的晶圆半导体芯片—一切割,这些切割后的芯片称为裸芯片(Bare Chip)或晶粒(Die),但是这种状态下的芯片不能与外部交换电信号,所以容易受到外部冲击,造成损坏。为了将半导体芯片或集成电路(IC)安装在基板或电子设备上,需要对其进行相应的包装。为使半导体芯片与外部交换信号从而制造通路,并在多种外部环境中保护芯片安全的工艺叫做封装工艺。半导体产品封装是将制造好的半导体裸芯片通过一系列物理和化学手段保护起来,并提供与外部电路连接的接口,以便在电路板或其他系统中使用。以下是半导体产品封装工艺的详细解析:1. 引线键合引线键合是最传统的封装技术之一,包括金丝球焊、铝丝超声焊接等。在这个过程中,细金属线被用来连接芯片上的焊盘和封装体中的导电引脚,以实现电气互连。2. 倒装芯片(Flip-Chip)倒装芯片技术直接将芯片上的焊球与基板或封装载体的焊盘对准并焊接,从而实现芯片与外部电路的直接连接。这种技术具有短路径、低电阻、高I/O密度的优点。3. 晶圆级芯片尺寸封装(Wafer-Level Chip Scale Package, WLCSP)在晶圆阶段就完成大部分封装过程,包括切割前的RDL(重新分配层)布线,形成接近芯片尺寸的小型化封装形式。包括扇入型WLCSP(Fan-In WLCSP)和扇出型WLCSP(Fan-Out WLCSP)。4. 芯片级封装(Chip Scale Package, CSP)芯片级封装的目标是使封装后的芯片尺寸尽量接近裸芯片大小,减少封装占用的空间,提高集成度。CSP可以采用多种内部结构和互连技术。5. 球栅阵列封装(Ball Grid Array, BGA)BGA封装是一种高密度封装方式,其底部呈网格状排列着大量的小锡球作为I/O连接点。BGA可以实现高密度、高性能的封装,并且能够有效降低信号传输损耗。6. 四边扁平无引脚封装(Quad Flat No Leads, QFN)QFN封装是一种无引脚封装技术,芯片四周有大面积散热片,底部设有多个焊盘用于与PCB板焊接,适用于小型化、低高度以及需要良好散热的应用场景。7. 多芯片模块封装(Multi-Chip Module, MCM)多芯片模块封装技术将多个功能不同的芯片在一个封装体内集成,通过内部互联线路进行通信,能显著缩小系统的体积,同时优化系统性能。8. 三维封装技术(3D Packaging)包括硅通孔(Through-Silicon Via, TSV)、堆叠式封装(Stacked Die Packaging)等技术,通过垂直方向的互连层来整合多层芯片,以实现更紧凑、更快捷的数据传输和更低功耗。每种封装工艺都有其特定的优势和适用领域,随着半导体技术的进步,封装工艺也在不断革新,如扇出型面板级封装(FOPLP)、混合键合封装(Hybrid Bonding)等新技术逐渐崭露头角。这些封装工艺的选择取决于芯片设计、应用需求、成本效益及市场趋势等多种因素。现代半导体工艺中包含晶圆的清洗、氧化、光刻、刻蚀、沉积等环节,每个环节中又涉及到多种工序,这其中离子掺杂、离子注入、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等工序均需要保证晶圆的平稳固定,因此都需要静电卡盘来进行夹持。 在半导体制造工艺中,晶圆的平整度与洁净度对整个半导体制造的精度与良率至关重要,相较于传统的机械卡盘与真空卡盘,静电卡盘因吸附力均匀、污染小、可作用于真空环境等优势也就成了不二之选。无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

半导体设备零部件-静电卡盘

半导体设备零部件-静电卡盘

2024-07-20

半导体产业作为我国战略科技力量的核心支柱产业,其半导体零部件领域的发展对于推动我国半导体产业高质量发展具有至关重要的影响。半导体设备由众多复杂零部件构成,这些零部件的性能、品质和精度直接影响着设备的可靠性与稳定性。因此,半导体设备零部件需在材料、结构、工艺、品质、精度、可靠性及稳定性等方面满足半导体设备及技术的要求。半导体设备的生产能力取决于零部件的保障。可以说,半导体设备零部件是整个半导体行业的基石。半导体设备零部件是半导体设备厂商的主要成本来源,约占营业成本的90%,并占半导体设备总价值量的50%。从成本角度来看,零部件采购额通常占据半导体设备生产成本的90%以上,是半导体设备的基础和核心。据预测,到2030年,我国半导体设备零部件市场预期规模将达到约180亿美元。根据SEMI数据,2022年全球半导体设备市场规模达到1076亿美元,我国半导体设备市场规模达到283亿美元,占全球半导体设备规模的26%。预计到2026年底,我国晶圆制造产能有望超过340万片/月。相应地,预计2020年至2026年,我国晶圆厂用于制造芯片流程中替换零部件的采购额将从10亿美元增长至19亿美元左右。静电卡盘ESC:静电卡盘ESC已成为广泛应用的晶圆夹持工具,是刻蚀设备、PVD设备、PECVD设备、离子注入设备等核心部件。据QYResearch数据,2021年全球静电吸盘市场销售额为17.14亿美元,预计2028年将达到24.12亿美元,2022-2028年复合增长率为5.06%。2021年全球静电吸盘销量为5.54万件,预计2028年将达到7.99万件。2021年中国静电吸盘市场规模为3.19亿美元,预计2028年将达到5.24亿美元,2022-2028年复合增长率为7.16%。无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

开发设计静电卡盘,致力于静电卡盘等精密陶瓷部件国产化

开发设计静电卡盘,致力于静电卡盘等精密陶瓷部件国产化

2024-07-16

面向半导体设备零部件国产化需求,持续开发陶瓷材料体系,利用成熟的制造工艺平台,实现加热盘和静电卡盘等技术难度高的精密零部件国产化,解决国产半导体设备行业“卡脖子”问题。  精密陶瓷零部件作为半导体设备关键零部件之一,是指采用氧化铝、氮化铝等先进陶瓷经精密加工后制备的半导体设备用核心零部件,具有高强度、耐腐蚀、高精度等优异性能,应用于刻蚀机、涂胶显影机、光刻机、离子注入机等半导体关键设备中。主要包括陶瓷环、手臂、真空吸盘、加热盘、静电卡盘ESC等产品,其中加热盘和ESC静电卡盘由于技术难度高长期依赖进口。陶瓷加热盘具备温度均匀性好、控制精度高、尺寸精度高、耐腐蚀等优点,在半导体制程中作为设备的关键零部件直接与晶圆接触,可实现晶圆表面温度高精度控制和快速升降温。静电卡盘利用静电吸附原理夹持晶圆并使其保持较好的平坦度且不损伤,是一种适用于真空环境或等离子体环境的超洁净晶圆承载体。  随着物联网、AI、高性能计算、5G 通讯、自动驾驶等数字经济蓬勃发展,带动全球半导体需求增长。作为全球最大的芯片消费市场,国内晶圆厂产线扩建也直接拉动了国内半导体设备需求激增。无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

半导体制造:静电卡盘的应用有什么

半导体制造:静电卡盘的应用有什么

2024-07-13

一、静电卡盘简介静电卡盘,是一种利用静电力来夹持半导体晶圆的装置。在半导体制造行业中,由于半导体晶圆往往是在特定制造环境中处理,如洁净室和真空室中,因此需要使用特殊的装备来处理它们。其中,半导体设备中采用的静电卡盘ESC就是一种在制造过程中必不可少的装置。静电卡盘的工作原理是:通过将电极电压施加在卡盘表面,产生静电吸力将晶圆夹紧。这种装置能够精确夹紧晶圆,并在加工和测试过程中保持其位置不变。二、ESC静电卡盘的优点1. 高度精度:静电卡盘能够夹持半导体晶圆,并使其保持精确位置,从而实现高精度加工和测试。2. 更少的污染:相比于机械夹持方式,静电卡盘的使用可以减少因机械摩擦而产生的微粒污染,使制造过程更为干净。3. 更长的使用寿命:静电卡盘不会产生磨损和热变形等问题,因此具有更长的使用寿命和更低的维护成本。三、静电卡盘的缺点1. 费用高昂:由于其精密的制造和特殊的材料,静电卡盘的成本相比其他夹紧方法要高。2. 较弱的夹持力:静电卡盘夹持半导体晶圆的能力不如机械卡盘,同时也不适用于大型晶圆的加工。四、未来的发展趋势目前,随着半导体制造技术的发展,对装备精度和效率的要求也越来越高。因此,静电卡盘在半导体设备上的应用也得到了不断发展和改进。1. 结合其他夹持方式,提升夹持力:目前,静电卡盘通常会与机械夹持方式结合使用,以克服其夹持力不足的问题。2. 实现更高的加工精度:随着半导体晶圆的制造工艺不断更新和升级,需要更高精度的加工和测试方法。因此,静电卡盘也需要不断发展并提高其精度和稳定性,以满足半导体制造的需求。【结论】综上所述,静电卡盘在半导体制造设备中的应用具有十分重要的意义。它不仅能够提高加工精度和效率,同时也能减少污染和维护成本等问题。未来,随着半导体制造技术的不断发展和升级,静电卡盘也将不断改进和提高,为半导体制造带来更多的便利。无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

静电卡盘:半导体零部件必“闯”的一关

静电卡盘:半导体零部件必“闯”的一关

2024-07-09

静电卡盘又称为静电吸盘(ESC),在半导体设备中价值比较高的部件之一,是一种半导体工艺中的硅片夹持工具,利用静电吸附原理来固定硅片。  静电卡盘结构示意图  目前,静电吸盘广泛应用于集成电路制造工艺中,特别是刻蚀、PVD、CVD等核心工艺中。 ESC静电吸盘按照主体材质划分,可分为氧化铝陶瓷和氮化铝陶瓷(一般应用于静电吸盘、加热器)两大类。陶瓷材料具有良好的导热性,耐磨性及高硬度,且对比金属材料在电绝缘性方面有着先天的优势。氧化铝材料热导率及相关机械性能均不及氮化铝陶瓷,在半导体加工中,对硅片的温度控制相当重要,如果无法保证硅片表面的均温,则在对硅片的加工过程中将无法确保加工的均匀性,加工精度将受到极大的影响,因此行业内目前均以氮化铝陶瓷作为静电吸盘的较优制造材料。  作为离子注入、刻蚀等关键制程核心零部件之一,为满足在高真空等离子体或特气环境中起到对晶圆的夹持和温度控制等作用的需要,需加入其他导电物质使得 ESC总体电阻率满足功能性要求,还需在较低的烧结温度下实现纳米级陶瓷粉体快速致密化,静电吸盘表面处理后还要达到0.01微米左右的涂层,才能制备出致密性高、晶体结构稳定、体电阻率分布均匀且符合静电卡盘使用特性的专用陶瓷材料。因此,ESC的制造需要对材料的导热性,耐磨性及硬度指标非常了解,对精密机加工和表面处理技术要求也很高。  从技术角度看,除所承载晶圆规格尺寸逐步增大之外,静电卡盘的发展趋势主要表现为温度均匀性控制需求提升,即分区温控温区数量逐渐提高。2000年前后,分区温控温区数量一般为2区,2000年至2005年期间,分区温控温区数量一般为4区,而在现阶段,已有超过100温区的静电卡盘产品被研发生产并投入实际应用。  静电吸盘(ESC)行业的发展与半导体设备配套需求密切相关。近年来,随着国家加大半导体领域的投入,我国半导体设备采购额逐年增加,推动了包括静电吸盘(ESC)在内的核心部件的采购量增长。此外,随着中国大陆晶圆产能的建设和扩产,中国成为全球晶圆产能增长的重心,带动国产半导体设备的需求增长,为国产静电吸盘(ESC)的发展提供了良好的机遇。无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

微电子封装工艺有哪些

微电子封装工艺有哪些

2024-07-06

封装的基本定义和内涵封装(packaging,PKG):主要是在半导体制造的后道工程中完成的。即利用膜技术及微细连接技术,将半导体元器件及其他构成要素在框架或基板上布置、固定及连接,引出接线端子,并通过塑性绝缘介质灌封固定,构成整体主体结构的工艺。 封装工程:是封装与实装工程及基板技术的总和。即将半导体、电子元器件所具有的电子的、物理的功能,转变为适用于机器或系统的形式,并使之为人类社会服务的科学技术,统称为电子封装工程。 封装一词用于电子工程的历史并不长。在真空电子管时代,将电子管等器件安装在管座上构成电路设备一般称为组装或装配,当时还没有封装这一概念。自从三极管、IC等半导体元件的出现,改变了电子工程的历史。一方面,这些半导体元件细小柔嫩;另一方面,其性能又高,而且多功能、多规格。为了充分发挥其功能,需要补强、密封、扩大,以便与外电路实现可靠地电气联接,并得到有效地机械支撑、绝缘、信号传输等方面的保护作用。“封装”的概念正是在此基础上出现的。 封装的功能封装最基本的功能是保护电路芯片免受周围环境的影响(包括物理、化学的影响)。所以,在最初的微电子封装中,是用金属罐(Metal Can)作为外壳,用与外界完全隔离的、气密的方法,来保护脆弱的电子元件。但是,随着集成电路技术的发展,尤其是芯片钝化层技术的不断改进,封装的功能也在慢慢异化。 一般来说顾客所需要的并不是芯片,而是由芯片和PKG构成的半导体器件。PKG是半导体器件的外缘,是芯片与实装基板间的界面。因此无论PKG的形式如何,封装最主要的功能应是芯片电气特性的保持功能。 通常认为,半导体封装主要有电气特性的保持、芯片保护、应力缓和及尺寸调整配合四大功能,它的作用是实现和保持从集成电路器件到系统之间的连接,包括电学连接和物理连接。目前,集成电路芯片的I/0线越来越多,它们的电源供应和信号传送都是要通过封装来实现与系统的连接。芯片的速度越来越快,功率也越来越大,使得芯片的散热问题日趋严重,由于芯片钝化层质量的提高,封装用以保护电路功能的作用其重要性正在下降。静电吸附技术在泛半导体、光学等领域中有着广泛应用。静电卡盘(E-CHUCK)是一种适用于真空及等离子体工况环境的超洁净晶圆片承载体,它利用静电吸附原理进行超薄晶圆片的平整均匀夹持,是PVD、ETCH、离子注入等高端装备的核心部件。 微电子封装的功能芯片电气特性的保持功能通过PKG的进步,满足不断发展的高性能、小型化、高频化等方面的要求,确保其功能性。芯片保护功能PKG的芯片保护功能很直观,保护芯片表面以及连接引线等,使在电气或物理等方面相当柔嫩的芯片免受外力损害及外部环境的影响。保证可靠性。 应力缓和功能由于热等外部环境的影响或者芯片自身发热等都会产生应力,PKG缓解应力,防止发生损坏失效,保证可靠性。 尺寸调整配合(间距变化)功能由芯片的微细引线间距调整到实装基板的尺寸间距,从而便于实装操作。例如,从亚微米(目前已小于 0.13μm)为特征尺寸的芯片到以10μm为单位的芯片电极凸点,再到以100μm为单位的外部引线端子,最后到以mm为单位的实装基板,都是通过PKG来实现的。在这里PKG起着由小到大、由难到易、由复杂到简单的变换作用。从而可使操作费用及资材费用降低,而且提高工作效率和可靠性。保证实用性或通用性。无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

静电卡盘:芯片半导体制造中提高精度的利器

静电卡盘:芯片半导体制造中提高精度的利器

2024-07-02

一、静电卡盘的原理静电卡盘是一种基于静电原理的芯片半导体制造加工设备,它利用高电压静电场将工件吸附在加工台面上,从而实现固定。相比于传统的机械卡盘,静电卡盘可以更好地适应各种形状和大小的工件,且具有更高的精度和稳定性。二、静电卡盘的优势1.加工精度高:由于静电卡盘可以将工件精确固定在加工台面上,可以大大提高加工精度,尤其是对于小零件、薄板等难以使用传统机械卡盘的工件,更能发挥其优势。2.加工效率高:采用静电卡盘可以避免机械卡盘需要更换夹具的情况,提高了装夹速度和效率。3.适应性强:静电卡盘可以根据工件形状和大小进行调整,适应性更强。三、静电卡盘的应用静电卡盘广泛应用于各种工业加工领域,比如数控加工、半导体芯片制造、精密机械制造等。在数控加工中,静电卡盘可以保证工件的检测和加工中没有任何形变,避免加工误差和误差传递。在半导体芯片制造中,静电卡盘esc可以将芯片牢固地固定在加工台面上,保证制造工艺的精度和稳定性。综上所述,静电卡盘是一种非常重要的工业加工设备,它可以提高加工精度和效率,适应性更强,广泛应用于各种工业加工领域。无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

静电卡盘ESC在蚀刻应用有什么?

静电卡盘ESC在蚀刻应用有什么?

2024-06-29

由于众多周知的原因,国内半导体企业迎来转型机遇,自研半导体设备不断替代老旧设备是行业的发展趋势。值得注意的是,对于产业链条长、复杂性高的半导体产业,产业链上下游的高度协同,是设备等产业链重要节点持续发展的必经之路。设备企业需进一步强化集成能力,与晶圆制造企业、封装测试企业进行网络化协同创新,新一代半导体设备的推出尤其需要产业链上中下游企业紧密合作。在半导体制造工艺和LCD制造工艺中,为固定和支持晶片,避免处理过程中出现移动或者错位现象,常常使用静电卡盘(简称ESC:Electrostaticchuck).静电卡盘采用静电引力来固定品片,比起以前采用的机械卡盘和真空吸盘,具有很多优势。静电卡盘减少了在使用机械卡盘由于压力,碰撞等原因造成的晶片破损;增大了品片可被有效加工的面积;减少了品片表面腐蚀物颗粒的沉积;使晶片和卡盘可以更好的进行热传导;并且可以在真空环境下工作,而真空吸盘不可以。静电卡盘ESC 的组成及分类一种典型的静电卡盘由绝缘层和基座组成。绝缘层用来支持晶片,电极则埋藏在绝缘层之下的导电平面。静电卡盘是利用品片和电极之间产生的库仑力或是利用品片和电极之间产生的Johnsen-Rahbek力来达到固定品片的目的。基座则用来支持绝缘层,接入RF偏压:作为冷井或供热源,来控制晶片的温度。一般陶瓷层和基座之间用一种粘接剂来粘接。静电卡盘依据电极的个数主要分为单电极,双电极。所谓单电极,顾名思义,就是只有一个电极。而双电极则有两个电极。单电极为了能产生静电引力,必需对晶片施加电压,必需在等离子体起作用的情况下才能产生静电引力。而双电极则没有这个必要。同双电极相比,单电极的最大的好处是用低电压就可以产生大的静电力,但是单电极的残余电荷不好处理,导致在释放时,容易出问题。双电极在静电释放这一方面占据很大的优势。无锡方克斯公司逐步涉及半导体核心零部件国产化替代,重点是静电卡盘(ESC)国产化设计。我们承诺全心全意为半导体生产厂家提供专业、独特、满意的服务。想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

静电卡盘有哪些分类

静电卡盘有哪些分类

2024-06-25

静电卡盘按照主体材料材质划分,可分为氧化铝和氮化铝(一般应用于静电吸盘加热器)两大类;按照陶瓷静电卡盘力学模型来划分,可分为库伦(电介质)和迥斯热背(J-R)两大类。其中电介质类静电卡盘的材料可以由纯氧化铝、氮化铝、氧化硅等;迥斯热背类静电卡盘的材料可以由氧化铝、氮化铝、氧化硅等材料掺杂适量的金属粉末混凝烧结而成。着半导体及集成电路制程设备和制程工艺的发展,传统的以有机高分子材料和阳极氧化层为电介质的静电卡盘逐步被陶瓷静电卡盘逐渐替代,陶瓷静电卡盘拥有良好的导热和耐卤素等离子气氛的性能,广泛应用于半导体及集成电路核心制程制作中,在高真空等离子体或特气环境中起到对晶圆的夹持和温度控制等作用,是离子注入、刻蚀等关键制程核心零部件之一。静电吸附技术在泛半导体、光学等领域中有着广泛应用。静电卡盘(E-CHUCK)是一种适用于真空及等离子体工况环境的超洁净晶圆片承载体,它利用静电吸附原理进行超薄晶圆片的平整均匀夹持,是PVD、ETCH、离子注入等高端装备的核心部件。静电卡盘运用领域面板行业真空贴合、半导体芯片封装、微电子集成电路、精密光学元件制造、太阳能光伏生产领域等。 想了解更多静电卡盘相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/

静电卡盘所参与的晶圆制造环节是什么?

静电卡盘所参与的晶圆制造环节是什么?

2024-06-22

静电卡盘由于静电卡盘使用寿命约为2 年,它既属于零部件又可以被归为耗材。据估算,晶圆厂采购的静电卡盘金额占所有采购零部件产品的9%,与石英件、射频发生器、泵、阀占比相当。晶圆厂零部件采购金额占比当前,主流静电卡盘主要氧化铝陶瓷以作为基底主材,未来,热导率更好的氮化铝陶瓷是发展趋势。静电卡盘所参与的晶圆制造环节静电卡盘在半导体制造工艺的多个环节扮演着重要作用。集成电路制造全流程-晶圆制造流程现代半导体工艺中的离子掺杂、离子注入、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等工序均需要保证晶圆的平稳固定,因此都需要静电卡盘来进行夹持。刻蚀工艺中静电卡盘工作原理静电卡盘主要有以下三大优势:吸附力均匀:静电卡盘由于吸附作用均匀分布在晶圆表面,可以保证晶圆具有较好的平整度,从而具有更好的加工精度。污染小:机械卡盘与真空卡盘在工作中容易受到微小颗粒的污染,导致晶圆变形或表面划伤。静电卡盘对晶圆的污染较小,因此可保证晶圆加工过程中具有较高的良率。适用于真空环境:真空环境下,真空卡盘无法对晶圆实现吸附。静电卡盘由于利用静电力进行吸附,因此在真空环境下依然可以保证较好的吸附性能。(半导体制造工艺中离子注入、化学气相沉积(CVD)等环节需要在真空环境下进行。)想了解更多静电卡盘esc相关信息,请跟我们联系或者访问方克斯网站http://www.focusdz.com/